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G-25X型或G-25XA型 光刻機



              光刻機整機圖片                      

一、主要用途:

本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生産。

 

二、 主要性能指标

1.  設備能真空吸附5" ×5"方形掩闆,對版的厚度無特殊要求(13mm皆可)。

2.  設備能适用于Φ100mm圓形基片(或100×100mm方形基片),基片厚度≤5mm,當您的基片厚度≤1mm時,我公司為本機配置标準承片台(不另計費),當基片厚度>1mm時,設備需配置專用承片台(訂貨時用戶須說明,費用另議)。

3.  照明:

光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

照明範圍:≤ф117mm

曝光面積:Φ100mm

Φ100mm範圍内,曝光不均勻性≤±3%曝光強度:5mw/ cm²(此指标用紫外光源I365nm測量)。

4.  本設備采用進口時間繼電器控制氣動快門,動作準确、可靠。

5.  本機為接觸式曝光機,但可實現:

a.  硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPa

b.  軟接觸曝光:接觸壓力可将真空降到-0.02MPa -0.05MPa之間。

c.  微力接觸曝光:小于軟接觸,真空≥-0.02MPa

6. 曝光分辯率:本設備硬接觸曝光的分辨度可達1μm以上(用戶的“版”、“片”精度必須符合國家規定,環境、溫度、濕度、塵埃能得到嚴格控制,采用進口正性光刻膠,且勻膠厚度能得到嚴格控制,加之前後工藝先進)

7.對準:觀察系統為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。

a.  單筒顯微鏡為1.6X10X連續變倍顯微鏡。

b.CCD攝像機靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm;

c.采用19"液晶監視器,其數字放大倍率為19÷1/3=57倍;

d.觀察系統放大倍數為:1.6×5791倍(最小倍數),10×57570倍(最大倍數)

1)對準台:(采用片動,版不動方式)

      XY調整:±5mm

2)θ調整:轉角≤5°

    對準間隙(分離間隙)05mm任意可調。

    整個對準台相對于顯微鏡可作±15mm掃描運動。

  “接觸、分離”20μm情況下,片相對于版的“漂移量”,可調到≤±0.5μm

8.設備所需能源:

主機電源: 220V±10%   50HZ 1KW

潔淨空氣≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。(設備自帶無油型真空泵一台)

9. 尺寸和重量:

 尺寸:機體1300 mm(長)×720 mm(寬)×1500mm(高)。

重量:≤200Kg

10.G-25X型高精密單面光刻機的組成由主機(含機體和工作台),對準用單筒顯微鏡,高均勻性曝光頭。

11.附件如下:

a.主機附件:(出廠時安裝到機器上)

(1)5"□型掩版夾盤。

(2) 用于100×100mm基片的真空夾持承片台(或Φ4"圓形基片的真空夾持承片台)

b.顯微鏡組成

(1)單筒顯微鏡二個

(2)兩個CCD

(3)視頻連接線。

    (4)計算機和19"液晶監視器。

 


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